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真空蒸发镀膜法在真空室中的应用

样品必须是固体；满足***，无性，无污染，无磁，无水，成分稳定要求。表面受到污染的试样，要在不***试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干；

新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免***断口或表面的结构状态；

要侵蚀的试样表面或断口应清洗干净并烘干；

磁性样品预先去磁；

试样大小要适合仪器样品座尺寸。

真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分 子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(称为衬 底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。

粉末样品直接分散法:双面胶粘在铜片上,将被测样品颗粒

粉末样品

直接分散法：

双面胶粘在铜片上，将被测样品颗粒借助于棉球直接散落在上面，用洗耳球轻吹试样，除去附着的和未牢固固定的颗粒。

把载有颗粒的玻璃片翻转过来，对准已备好的试样台，用小镊子或玻璃棒轻轻敲打，使细颗粒均匀落在试样台。

超声分散法：将少量的颗粒置于烧杯中，加入适量的乙醇，超声震荡5分钟后，用滴管加到铜片上，自然干燥。

二次电子(SecondaryElectr)

二次电子(Secondary Electr)：电子束和样品作用，可将传导能带(conduction band)的电子击出，此即为二次电子，其能量约 < 50eV。由于是低能量电子，所以只有在距离样品表面约50~500?深度范围内所产生之二次电子，才有机会逃离样品表面而被侦测到。由于二次电子产生的数量，会受到样品表面起伏状况影响，所以二次电子影像可以观察出样品表面之形貌特征。 ：入射电子和样品进行非弹性碰撞可产生连续X和特征X，前者系入射电子减速所放出的连续光谱，形成背景决定少分析之量，后者系特定能阶间之能量差，可藉以分析成分元素。

钛合金具有比强度高、耐腐蚀性好、耐热性好等诸多优点

虽然钛合金具有比强度高、耐腐蚀性好、耐热性好等诸多优点，但单一的钛合金材料在实际应用中也存在很多缺点，比如表面硬度较低、摩擦系数高、易磨损、高温（600 ℃ 以上）易氧化等[2,3]。这使钛合金作为关键运动副零部件，尤其是在高温环境工作时，表面易发生氧化腐蚀和严重磨损，在生产应用中，常需要通过表面处理技术，使钛合金在保持高比强度的同时，具有优异的耐磨和高温化性能[4]。